Оборудование

Установка молекулярно-лучевой эпитаксии ЦНА-9
Установка молекулярно-лучевой эпитаксии RIBER 32P
Установка низкотемпературного плазмохимического осаждения диэлектрических слоев Plasmalab-100-ICP 180 фирмы Oxford Instruments

 

Установка низкоэнергетического плазменного травления материалов SI-500 ICP фирмы Sentech Instruments
Установка низкоэнергетического плазмохимического травления на основе электронного циклотронного резонанса (ЭЦР)

 

Установка приклейки пластин на диск-носитель фирмы Logitech

Установка шлифования и полировки пластин PM-5 фирмы Logitech

Установка ВИМС (Вторичная ионная масс-спектроскопия) CAMECA IMS 4F

Зондовая станция с измерителем ВАХ Tektronix CURVE TRACER 370A

 

 

Установка плазменной обработки пластин Glen 1000P

Установка прецизионной контактной фотолитографии SUSS MJB4 IR (i-, g-, h-, line UV и DUV (λ=200-250 нм.))

Инспекционный оптический микроскоп Leica INM100 (видимый свет и УФ)

Установка электронно-лучевой нанолитографии высокого разрешения Raith150-TWO (Raith GmbH)

Установка плазмохимического осаждения диэлектрических слоев (PECVD)

Установка низкоэнергетического плазменного травления материалов SI-500 ICP фирмы Sentech Instruments

 

Установка напыления золота с безмаслянной откачкой, водяным охлаждением подложки и кварцевым датчиком толщины

 

Установка ионно-лучевого травления фирмы TECHNICS

Установка вакуумного напыления с безмаслянной откачкой, водяным охлаждением подложки и кварцевым датчиком толщины

 

Установка электронно-лучевой нанолитографии высокого разрешения Voyager (Raith GmbH, 2014)

Прокрутить вверх